Edmund生产的HDK S1高低温衍射腔

详细说明：
温度范围：
从室温到1600°C（标准）; 
- 185°C ~ + 400°C（低温选项）
气体条件： 高真空，惰性气体，氮气，空气，氧化混合物
x-射线窗： 聚酰亚胺箔(Capton foil, 标准)，0°≤2θ≤180°; 
铍窗（可选项）0°≤2θ≤180°
XRD衍射腔可在在明确定义的环境中操作（如1巴惰性气体，氮气，空气和氧的混合物）或10-5毫巴的高真空环境
温度范围：从室温到1600°C（标准）; - 185°C ~ + 400°C（低温选项）
样品调节装置用于样品的垂直调整，+1/-9 mm
样品容器热膨胀自动补偿装置
黄铜制成的镀镍腔体（可用于腐蚀性气体或样品）

可选项：
黄铜制成的镀镍腔体（可用于腐蚀性气体或样品）
HDK S1衍射腔前面板可拆卸以用于安装低温装置
冷却：镀金铜块用液氮冷却，用特殊的加热丝加热控制：通过NiCrNi ( K型)热电偶