Fried生产的HPS-8基片加热台

HPS-1/6/7/8,基片加热台 我们的现代铝基片加热器专为工业和临床实验室环境中的细胞学、组织学、病理学和其他生物学应用而设计。易于滑动拾取，温度极佳。准确度、均匀性、稳定
性。

应用领域: 
► 基片加热
► 基片干燥
► 原位分子杂交
► 玻片培养
► 组织学
► 解剖学
► Imuno 组织化学

可选选项: 高达42 基片

可选选项: 可编程 RAMP/SOAK 2 个程序，每个程序8 段。

产品参数：
加热工位：up 45 片
温度调节：Digital front panel
温度范围：RT +5 - 99.9°C (°C/ °F 可选择)
数字微处理器：PID 控制器
温度稳定性：±0.1°C
准确度：±0.2°C
功耗：-
电气要求：230V, 50/60Hz
尺寸：W300xH160xD310mm
重量：-